2022-2028年中国晶圆加工设备行业市场调查研究及投资策略研究报告

2022-2028年中国晶圆加工设备行业市场调查研究及投资策略研究报告

《2022-2028年中国晶圆加工设备行业市场调查研究及投资策略研究报告》共十三章,包含国内晶圆加工设备主要企业经营情况,中国晶圆加工设备行业项目投资案例,2022-2028年晶圆加工设备行业发展前景及趋势预测等内容。

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第一章2017-2021年中国晶圆加工设备行业发展环境分析

1.1 政策环境

1.1.1 行业政策概览

1.1.2 行业规划政策

1.1.3 行业税收政策

1.2 经济环境

1.2.1 全球经济形势

1.2.2 国内经济运行

1.2.3 对外经济分析

1.2.4 工业经济运行

1.2.5 固定资产投资

1.2.6 宏观经济展望

1.3 行业环境

1.3.1 半导体行业产业链

1.3.2 全球半导体行业发展情况

1.3.3 全球半导体产业转移阶段

1.3.4 全球半导体行业资本开支

1.3.5 中国半导体行业发展情况

1.3.6 半导体行业发展趋势

第二章2017-2021年中国晶圆加工设备行业发展综述

2.1 晶圆加工设备概述

2.1.1 晶圆加工设备分类

2.1.2 晶圆加工设备特点

2.1.3 行业的上下游情况

2.1.4 晶圆加工设备价值

2.2 半导体设备行业发展情况

2.2.1 半导体设备行业基本情况

2.2.2 全球半导体设备行业发展情况

2.2.3 国内半导体设备行业政策分析

2.2.4 中国半导体设备行业发展情况

2.2.5 国内半导体设备行业发展需求

2.3 晶圆加工设备行业发展情况

2.3.1 全球晶圆加工设备市场规模

2.3.2 中国晶圆加工设备市场规模

2.3.3 中国集成电路制造设备国产化潜力

2.4 中国晶圆加工设备行业投招标情况

2.4.1 半导体设备行业招投标情况

2.4.2 晶圆加工设备厂商中标现状

2.4.3 晶圆加工设备厂商中标动态

2.4.4 晶圆加工设备行业投资风险

2.5 晶圆加工设备行业发展挑战及建议

2.5.1 晶圆加工设备行业发展挑战

2.5.2 晶圆加工设备行业发展建议

第三章2017-2021年中国光刻设备行业发展综述

3.1 光刻设备概述

3.1.1 光刻机基本介绍

3.1.2 光刻技术介绍

3.1.3 EUV光刻机制造工艺

3.1.4 主流光刻机产品对比

3.2 全球光刻设备行业发展情况分析

3.2.1 全球光刻机发展历程

3.2.2 全球光刻机行业销量规模

3.2.3 全球光刻机行业市场规模

3.2.4 全球光刻机产品结构分析

3.2.5 全球光刻机行业竞争格局

3.3 中国光刻设备行业发展情况分析

3.3.1 国内光刻机产业链布局

3.3.2 国内光刻机研发动态

3.3.3 国产光刻机发展建议

第四章2017-2021年中国薄膜沉积设备行业发展综述

4.1 薄膜沉积设备概述

4.1.1 薄膜沉积设备定义

4.1.2 薄膜沉积设备分类

4.2 薄膜沉积设备市场发展情况

4.2.1 全球薄膜沉积设备市场规模

4.2.2 全球薄膜沉积设备竞争态势

4.2.3 国内薄膜沉积设备招标情况

4.2.4 国内薄膜沉积设备竞争态势

4.2.5 薄膜沉积设备行业面临挑战

4.3 化学气相沉积(CVD)设备行业发展情况

4.3.1 CVD技术概述

4.3.2 CVD设备产业链全景

4.3.3 CVD设备行业发展现状

4.3.4 CVD设备行业竞争格局

4.4 薄膜沉积设备行业发展前景

4.4.1 薄膜沉积设备行业面临机遇

4.4.2 薄膜沉积设备行业风险分析

4.4.3 薄膜沉积设备行业发展趋势

第五章2017-2021年中国刻蚀设备行业发展综述

5.1 刻蚀设备概述

5.1.1 半导体刻蚀技术

5.1.2 刻蚀工艺分类

5.1.3 刻蚀先进工艺

5.1.4 刻蚀设备原理

5.1.5 刻蚀设备分类

5.1.6 刻蚀设备产业链

5.2 全球刻蚀设备行业发展情况

5.2.1 刻蚀设备市场规模

5.2.2 刻蚀设备市场结构

5.2.3 刻蚀设备竞争格局

5.3 中国刻蚀设备行业发展情况

5.3.1 刻蚀行业驱动因素

5.3.2 刻蚀设备国产化情况

5.3.3 刻蚀技术水平发展状况

5.3.4 刻蚀领域技术水平差距

5.3.5 刻蚀设备国产替代机遇

第六章2017-2021年中国化学机械抛光设备行业发展状况

6.1 CMP设备概述

1.1.1 CMP技术概念

6.1.1 CMP设备应用场景

1.1.2 CMP设备基本类型

6.2 全球CMP设备行业发展情况

6.2.1 全球CMP设备市场分布

6.2.2 全球CMP设备竞争格局

6.2.3 全球CMP设备市场规模

6.3 中国CMP设备行业发展情况

6.3.1 CMP设备市场规模

6.3.2 CMP设备市场分布

6.3.3 CMP设备市场集中度

6.3.4 CMP设备行业面临挑战

6.3.5 CMP设备行业投资风险

6.3.6 CMP设备技术发展趋势

第七章2017-2021年中国清洗设备行业发展综述

7.1 清洗设备行业概述

7.1.1 半导体清洗介绍

7.1.2 半导体清洗工艺

7.1.3 清洗设备的主要类型

7.1.4 清洗设备的清洗原理

7.2 全球清洗设备行业发展情况

7.2.1 全球清洗设备行业市场规模

7.2.2 全球清洗设备行业竞争格局

7.2.3 全球清洗设备公司技术布局

7.2.4 全球清洗设备市场结构分布

7.3 中国清洗设备行业发展情况

7.3.1 国内清洗设备企业发展情况

7.3.2 国内清洗设备行业技术发展

7.3.3 国内清洗设备厂商中标情况

7.3.4 国内清洗设备市场发展空间

第八章2017-2021年中国离子注入设备行业发展综述

8.1 离子注入机概述

8.1.1 离子注入工艺

8.1.2 离子注入机组成

8.1.3 离子注入机类型

8.1.4 离子注入机工作原理

8.2 离子注入机应用领域分析

8.2.1 光伏应用领域

8.2.2 集成电路应用领域

8.2.3 面板AMOLED领域

8.3 全球离子注入设备发展状况

8.3.1 行业市场价值

8.3.2 全球市场规模

8.3.3 全球市场格局

8.3.4 行业进入壁垒

8.4 国内离子注入设备行业发展情况

8.4.1 行业相关政策

8.4.2 行业供求分析

8.4.3 行业市场规模

8.4.4 细分市场分析

8.4.5 市场竞争格局

8.4.6 行业发展趋势

第九章2017-2021年晶圆加工设备行业下游发展分析——晶圆制造行业

9.1 晶圆制造行业概述

9.1.1 行业发展历程

9.1.2 企业经营模式

9.1.3 行业技术发展

9.2 全球晶圆制造业发展分析

9.2.1 全球集成电路产业态势

9.2.2 全球集成电路市场规模

9.2.3 全球集成电路市场份额

9.2.4 全球晶圆制造产能分析

9.3 中国晶圆制造业发展分析

9.3.1 晶圆制造行业规模

9.3.2 晶圆制造行业产量

9.3.3 晶圆制造区域发展

9.3.4 晶圆制造并购分析

9.3.5 芯片制程升级需求

9.3.6 晶圆制造发展机遇

9.4 晶圆代工业市场运行分析

9.4.1 全球晶圆代工市场份额

9.4.2 全球晶圆代工企业扩产

9.4.3 全球专属晶圆代工厂排名

9.4.4 国内本土晶圆代工公司排名

9.4.5 晶圆代工市场发展预测

第十章国外晶圆加工设备主要企业经营情况

10.1 应用材料(AMAT)

10.2 泛林半导体(Lam)

10.3 东京电子(TEL)

10.4 先晶半导体(ASMI)

第十一章国内晶圆加工设备主要企业经营情况

11.1 拓荆科技

11.1.1 企业发展概况

11.1.2 经营效益分析

11.1.3 业务经营分析

11.1.4 财务状况分析

11.1.5 核心竞争力分析

11.1.6 公司发展战略

11.2 北方华创

11.2.1 企业发展概况

11.2.2 经营效益分析

11.2.3 业务经营分析

11.2.4 财务状况分析

11.2.5 核心竞争力分析

11.2.6 公司发展战略

11.3 中微公司

11.3.1 企业发展概况

11.3.2 经营效益分析

11.3.3 业务经营分析

11.3.4 财务状况分析

11.3.5 核心竞争力分析

11.3.6 公司发展战略

11.4 盛美上海

11.4.1 企业发展概况

11.4.2 企业主营产品

11.4.3 经营效益分析

11.4.4 业务经营分析

11.4.5 财务状况分析

11.4.6 核心竞争力分析

11.5 至纯科技

11.5.1 企业发展概况

11.5.2 企业主要业务

11.5.3 经营效益分析

11.5.4 业务经营分析

11.5.5 财务状况分析

11.5.6 核心竞争力分析

11.6 万业企业

11.6.1 企业发展概况

11.6.2 经营效益分析

11.6.3 业务经营分析

11.6.4 财务状况分析

11.6.5 核心竞争力分析

11.6.6 公司发展战略

11.7 屹唐股份

11.7.1 企业发展概况

11.7.2 经营效益分析

11.7.3 业务经营分析

11.7.4 财务状况分析

11.7.5 核心竞争力分析

11.7.6 公司发展战略

11.8 华海清科

11.8.1 企业发展概况

11.8.2 抛光垫产品发展

11.8.3 经营效益分析

11.8.4 业务经营分析

11.8.5 财务状况分析

11.8.6 核心竞争力分析

第十二章中国晶圆加工设备行业项目投资案例

12.1 拓荆科技原子层沉积(ALD)设备研发与产业化项目

12.1.1 项目基本情况

12.1.2 项目投资概算

12.1.3 项目进度安排

12.1.4 项目效益分析

12.2 盛美上海清洗设备研发项目

12.2.1 项目基本情况

12.2.2 项目价值分析

12.2.3 项目投资概算

12.2.4 项目效益分析

12.3 屹唐股份刻蚀设备研发项目

12.3.1 项目基本情况

12.3.2 项目进度安排

12.3.3 项目价值分析

12.3.4 项目效益分析

12.4 华海清科化学机械抛光设备项目投资案例

12.4.1 项目基本情况

12.4.2 项目投资价值

12.4.3 项目投资概算

12.4.4 项目效益分析

第十三章2022-2028年晶圆加工设备行业发展前景及趋势预测

13.1 晶圆加工设备行业发展前景

13.1.1 行业面临机遇

13.1.2 国产替代前景

13.1.3 下游市场趋势

13.2 2022-2028年中国晶圆加工设备行业预测分析

13.2.1 2022-2028年中国晶圆加工设备行业影响因素分析

13.2.2 2022-2028年中国晶圆加工设备市场规模预测(ZY ZS)

研究方法

报告研究基于研究团队收集的大量一手和二手信息,使用案头研究与市场调研相结合的方式,依据“S-C-P”、“可竞争市场理论”、“新制度经济学”等产业组织理论,科学、综合的使用SWOT、PEST、回归分析等各类型研究模型与方法综合的分析行业各种影响因素。对行业的市场环境、产业政策、市场规模、行业现状、竞争格局、技术革新、市场风险、行业壁垒、机遇以及挑战等相关因素。

公司通过对特定行业长期跟踪监测,分析行业供给端、需求端、经营特性、盈利能力、产业链和商业模方面的内容,整合行业、市场企业、渠道、用多层面数据和信息资源,为客户提供深度的行业市场研究报告,全面客观的剖析当前行业发展的总体市场容量、竞争格局、 细分数据、进出口市场需求特征等,并根据各行业的发展轨迹及实践经验,对行业未来的发展趋势做出客观预测。

本公司建立了严格的数据清洗、加工和分析的内控体系,分析师采集信息后,严格按照公司评估方法论和信息规范的要求,并结合自身专业经验,对所获取的信息进行整理、筛选,最终通过综合统计、分析测算获得相关产业研究成果。

01数据与资料来源

本公司利用大量的一手及二手资料来源核实所收集的数据或资料。二手资料来源主要包括全球范围相关行业新闻、公司年报、非盈利性组织、行业协会、政府机构、海关数据及第三方数据库等,根据具体行业,应用的二手信息来源具有一定的差异。一般会应用的收集到的二手信息有来自新闻网站及第三方数据库如SEC 文件、公司年报、万得资讯、国研网、中国资讯行数据库、csmar 数据库、皮书数据库及中经专网、国家知识产权局等。

一手资料来源于研究团队对行业内重点企业访谈获取的一手信息数据,主要采访对象有公司CEO、营销/销售总监、高层管理人员、行业专家、技术负责人、下游客户、分销商、代理商、经销商等。市场调研部分的一手信息来源为需要研究的对象终端消费群体。

02研究方法与模型

SWOT分析、PEST分析、波特五力模型、行业生命周期理论、S-C-P分析方法、产业结构理论、产业竞争力模型、产业集群理论等。

03规模测算方法(三角测定)

本公司一般会通过行业访谈、电话访问等调研获取一手数据时,调研人员会将多名受访者的资料及意见、多种来源的数据或资料、供应端及需求端进行比对核查。在资料验证过程中,一般通过三角测定的方式,从供需两个方向出发,验证资料的合理性。

在数据验证过程中,本公司一般采用自上而下和自下而上方法来评估和验证数据的合理。产品关键生产商通过二手及一手信息来确定,行业规模(产销量及产值等),通过一手和二手信息判断,所有的市场份额、数据细分比例等,基于收集到的一手和二手信息核对和评估。本研究涵盖的所有可能影响市场的参数都已经被考虑进去,进行了广泛的细节观察,通过一手资料得到了验证,并进行了分析,以得到最终的定量和定性数据。研究一般包括了关键生产商公开的报告、评论、时事通讯以及对这些生产商相关人员的采访信息。

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◆ 本报告分析师具有专业研究能力,报告中相关行业数据及市场预测主要为公司研究员采用桌面研究、业界访谈、市场调查及其他研究方法,部分文字和数据采集于公开信息,并且结合智研咨询监测产品数据,通过智研统计预测模型估算获得;企业数据主要为官方渠道以及访谈获得,智研咨询对该等信息的准确性、完整性和可靠性做最大努力的追求,受研究方法和数据获取资源的限制,本报告只提供给用户作为市场参考资料,本公司对该报告的数据和观点不承担法律责任。

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